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Japanese

リソグラフィー

リソグラフィ  

ムーアの法則の限界が議論されるなか、半導体産業は、ブレークスルー技術によるさらなる微細化、そして従来とは異なるベクトルでの高性能化という2つの道を歩み始めました。
SEMICON Japanでは、時間の問題とされているEUVLの半導体量産適用に向けた準備状況と最近のEUVL関連技術、依然として半導体量産の最先端を担い続ける液浸露光、新たな手段として注目を集めるナノインプリント、微細化にともない要望が強まるマルチ電子ビーム技術などの、各種リソグラフィー技術の最近の状況が紹介されます。


 

展示

 SEMICON Japanでは、リソグラフィーに関わる世界的な企業、ベンチャー企業が最先端の取組みを披露します。 

 

 リソグラフィ関連 (装置・材料・プロセス) : 

 

 

セミナー

多様なセミナーから、最新技術、応用、今後トレンドを掴んでいただけます。

 

12月16日(金)

12:50 - 14:30

 

 

申  込

セミナー・イベントの申込みページへ

 

 

注目のセッション

 

 

STS 先端リソグラフィーセッション(1)

EUVL量産適用の準備状況


日時:2016年12月15日(木)10:20-12:00


EUVLの半導体量産適用が時間の問題とされています。その準備状況と最近のEUVL関連技術の話題を取り上げます。

エーエスエムエル・ジャパン 宮崎 順二

エーエスエムエル・ジャパン
宮崎 順二

東京エレクトロン(株) 永原 誠司

東京エレクトロン(株)
永原 誠司

レーザーテック(株) 宮井 博基

レーザーテック(株)
宮井 博基

 

 

出展者による出展者セミナー

展示会場内に設置されたTechSPOT では、出展者より、新製品、最先端技術、開発コンセプトなどホットな情報が多数発表されます。聴講は無料、事前登録不要です。奮ってご参加ください。

詳 細

 

 

 

 

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